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一批核心技术集中亮相“中国光谷”国际光电子

  11月11日,第十七届“中国光谷”国际光电子博览会暨论坛(以下简称:光博会)在中国光谷科技会展中心开幕。一批核心技术集中亮相武汉光博会。

  今年受新冠肺炎疫情影响,国内外光电行业均面临着巨大的生存考验,如何重启市场,如何找到新的增长点成为行业最紧迫的任务。在此背景下,2020武汉光博会如期举办,吸引近300家国内外展商,国内外最新科技成果齐聚,成为推动疫后光电产业复苏的关键平台。

  此次光博会,展示了一大批具有自主创新能力、突破关键技术、具备核心竞争力的企业及产品。福建中科晶创展出自主研发的光学超晶格PPLN晶体,性能达到了国际大厂同等水平,价格仅是同类产品的三十分之一;安扬激光展出毫焦级百瓦飞秒光纤激光器,该激光器所用光纤全部为自产自研,其脉冲能量是目前量产光纤激光器的最新突破;肯维捷斯(武汉)科技有限公司的基于自主知识产权的微型非球面透镜组显微镜头的光学设计方案,实现了颠覆显微镜行业的小型化和性价比,在器件级的尺寸上实现了完整的显微成像系统。

  国家光电子信息创新中心、国家数字化设计与制造创新中心等多个国家级创新中心的参展,进一步提高了展会的前瞻研判性。国家光电子信息创新中心展出与合作伙伴伊欧陆共同开发的国内首款拥有自主知识产权的硅光晶圆自动化筛检系统,进一步提升了国内硅基光电子芯片生产制造技术的能力,助力我国新基建发展;国家数字化设计与制造创新中心则展出了自主研发的激光先进加工制造设备及系统,助推我国数字化、智能化制造技术得到更高提升。

  为期3天的“光博会”,与会光电科学家、学者、知名企业家将围绕集成光电子、下一代光网络等科技创新领域展开学术研讨;围绕5G新基建、光纤传感、激光产业链、超快激光微加工、激光技术在汽车领域中的应用等前沿与热点技术方向展开讨论。(科技日报记者 刘志伟)

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